Sistemi Chimici per Vuoto NT Tipo MZ 2C NT +AK+EK Spina CH Portata (50/60 Hz) 33,30 / 38,30 L / min Vuot finale senza / con tr

Design compatto, pronti all'uso, non richiedono set-up.Costruiti in materiali ad elevata resistenza chimica. Funzionamento silenzioso.100% pompaggio di gas senz'olio trappola gas come standard per lavori con vapori condensabilibuon vuoto finale perfino con trappola gasalta tolleranza vapore per acqua e solventilunga durata, bassa manutenzioneCaratteristiche:2AK: trappole ingresso e uscitaAK + EK: trappola ingresso, condensatore vapori esaustiPC 510 NT(doppio stadio) / 610 NT(triplo stadio): con AK + EK; 1 porta per vuoto controllata elettronicamentePC 511 NT(doppio stadio) / 611 NT(triplo stadio): con AK + EK; 1 porta per vuoto controllata elettronicamente e 1 controllata manualmentePC 520 NT(doppio stadio) / 620 NT(triplo stadio): con AK + EK; 2 porte per vuoto controllate elettronicamenteCaratteristiche ed applicazioni:Senza controllo del vuoto:MZ 2C NT+2AK:es. filtrazione, distillazione senza condensazione in uscitaMZ 2C NT +AK+EK:Unit? adatte per un ampio range di applicazioni per il singolo utilizzatore es. gel drying, vuoto per gel che sono stati preventivamente seccati usando pompe a getto d'acqua, es. sequenze di gel, SDS-PAGE, fino al 10%. Per solventi con basso punto di ebollizione.MD 1C +AK+EK:Configurazione salva spazio singolo utente con vuoto finale 2mbar. per solventi alto bollenti.MD 4C NT + AK+EK:Maggiori o multiple applicazioni (es. molte gel-dryier) in una linea di vuoto locale (VACUU?LAN?). Vuoto finale 1.5 / 3 mbar. Per solventi ad alto punto di ebollizione e/o gradienti gel, SDS-PAGE >10%MV 10C NT +EK:Pompa a diaframma a 4 stadi con condensatore per vapori esausti. Vuoto finale 0.9 mbar. Per necessit? di vuoto finale e velocit? di pompaggio particolarmente elevate in laboratori chimici, impianti pilota o piccole unit? produttive.Con controllore di vuoto:PC 510 NT / 511 NT:Unit? adatte per un ampio range di processi in laboratori chimici, es. tutti i “classici ” solventi basso bollenti. Vuoto finale 7 / 12 mbar.Il PC 511 NT ha una porta addizionale per il vuoto controllata manualmente.PC 610 NT / 611 NT:Unit? adatte per generazione e controllo del vuoto fino ad un vuoto finale di 1.5 / mbar, includendo solventi ad alto punto di ebollizione.Il PC 611NT ha una porta per vuoto addizionale, controllata manualmente.PC 520 NT / 620 NT:Unit? di pompaggio chimico sincro con due indipendenti controllori del vuoto, per seguire due processi separati.PC 520 con vuoto finale 7 / 12 mbar, PC 620 NT con vuoto finale 1.5 / 3 mbar.
Tipo: MZ 2C NT +AK+EK
Spina: CH
Portata(50/60 Hz)L / min: 33,30 / 38,30
Vuot finalesenza / contrappola gasmbar (ass.): 7 / 12
Dimensioni(L x P x H)mm: 242 x 326 x 402